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硅片清洗水處理

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基本情況


微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括有機物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉等,引起嚴重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等,會導致各種缺陷。


工藝流程圖



方案優(yōu)勢


1、主要零部件均采用世界名牌産品,經(jīng)CAD設計,技術先進,性能可靠、産水性能優(yōu)良。

2、前置預處理保護裝置,確保高壓泵及反滲透膜不受硬物損壞。

3、脫鹽率高,運行壓力低的卷式復合膜提高了系統(tǒng)效率,并除低了運行成本。

4、産品濃縮水各設有流量計,以監(jiān)視并調(diào)節(jié)運行出水量及系統(tǒng)回收率。

5、在線電導儀表連續(xù)監(jiān)測産品水質(zhì),帶有設定值和報警。

6、進水及排水系統(tǒng)壓力表監(jiān)測反滲透壓差,提示清洗時間,全面的系統(tǒng)監(jiān)視,自動的儀表顯示。

7、靈敏的高壓、低壓開關;防止在異常狀況下對設備的損壞,確保系統(tǒng)的正常運轉(zhuǎn)。

8、硅材料清洗用超純水處理設備采用先進的膜保護系統(tǒng)定時沖洗膜表面,降低污染速度,延長膜使用壽命。

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